光刻机专利国家：领先于全球　　自20世纪60年代以来，随着半导体集成电路技术的飞速发展和需求的不断增加，光刻机作为集成电路制造中最重要的设备之一逐渐受到人们的重视。早期的光刻机设计和制造技术主要来自于