专利保护多少年">光刻机专利保护多少年
光刻机是一种重要的半导体制造设备，用于在半导体芯片上制造微小的结构和电路。由于光刻机的高科技性和经济价值，其专利保护就显得尤为重要。那么，光刻机专利能够得到什么样的保护呢？
根据世界知识产权组织的规定，光刻机的专利保护期限通常为20年。在这个期限内，专利持有人可以拥有在全球范围内使用、制造、销售和许可光刻机专利的权利。同时，一旦光刻机专利保护期限到期，其他公司可以开始制造和销售相同的设备，而不需要支付任何费用。
在国际上，光刻机的几家主要厂商包括荷兰ASML、日本尼康和佳能。尤其是ASML公司，其光刻机专利的保护期限已经开始逐渐到期。这也就意味着，其他公司可以开始研制和制造更便宜的、具有相同技术水平的光刻机。因此，对于ASML来说，不断开发新技术并及时获得新专利，是保持市场竞争力的重要手段。
总之，光刻机的专利保护对于制造业及整个经济都具有重要意义。随着时间的推移，各家厂商的专利保护期限也在不断到期。因此，持续的技术创新和及时的专利申请，是成为制造业领军企业的重要基础。
