光刻机专利保护期限是多少年？
自从光刻机发明以来，它一直是半导体制造工艺的核心设备之一。但是，作为一种高新技术设备，光刻机的专利意义重大。那么，光刻机专利到底能够被保护多少年呢？
事实上，不同国家对于专利的保护期限是有所不同的。但是，按照世界知识产权组织的规定，光刻机的专利保护期限最长可以持续到20年。也就是说，任何人在未得到专利人的授权下，不能生产、销售或使用该专利所保护的光刻机。
此外，专利保护期限的长短还与专利的类型有关。针对光刻机这一种设备，其专利可以包括发明专利、实用新型专利和外观设计专利。其中，发明专利和实用新型专利的专利期限都是20年，而外观设计专利的保护期限则为10年。
最后，需要注意的是，一旦光刻机的专利保护期限到期，其他企业就可以自由生产并销售该设备，从而引发激烈的市场竞争。因此，专利保护期限虽然重要，但也需要专利人不断推出更加先进的技术，并在专利保护期限内取得商业成功。只有这样，才能在竞争中保持优势。
